Nanométer szintű mérési technológia magában foglalja: nanométer szintű precíziós méret és elmozdulás mérés, és nanométer szintű felület topográfiai mérés. A nanométeres mérési technológiának két fő fejlesztési iránya van.
Az egyik az optikai interferometry technológia, amely a fény interferencia rojtokat használja a mérés felbontásának javítására. A mérési módszerek a következők: kétfrekvenciás lézer interferometry, optikai heterodyne interferometry, röntgen interferometry, F-P standard Szerszám mérési módszer, stb, lehet használni a pontos mérésére hossza és elmozdulás, és azt is fel lehet használni mérésére felületi mikro-topográfia.
A második a vizsgáló szonda mikroszkopikus mérési technológia (STM). Alapelve a kvantummechanika alagútépítési hatásán alapul. Alapelve, hogy egy nagyon éles szondát (vagy hasonló módszert) használjon a mért felület beolvasása érdekében (a szonda és a mért felület valójában nincs érintkezésben), és a felület háromdimenziós mikroszkopikus megjelenését egy nanoszintű háromdimenziós elmozdulási pozicionálási vezérlőrendszer segítségével mérik. Elsősorban a felület mikroszkopikus megjelenésének és méretének mérésére használják.
Mérési módszerek ezzel az elvvel a következők: szkennelés alagút mikroszkóp (STM), atomerő mikroszkóp (AFM), és így tovább.